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東芝とIBMが半導体研究開発で提携関係を拡大

 東芝とIBMは32ナノメートル世代のバルクCMOSプロセス技術を共同開発することで合意した。

 両社は2005年12月から米ニューヨークの研究施設で32ナノメートル以降の半導体プロセス技術の基礎研究を共同で進めてきたが今回の合意により、共同開発対象が32ナノメートル世代のバルクCMOSプロセス技術までと拡大される。

 ◆ナノメートル 1ナノは10億分の1


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