イオン注入など最新技術を展示、セミコン・ジャパンでアクセリス社
【東京５日PRN＝共同JBN】半導体産業向けの革新的、高生産性ソリューションの大手サプライヤーである米アクセリス・テクノロジーズ社（http://www.axcelis.com、ナスダック：ACLS）は５日、セミコン・ジャパン２０１１（http://www.semiconjapan.org/ja）でイオン注入およびプラズマ・ドライストリップ技術の最新成果を展示すると発表した。セミコン・ジャパンは東京の幕張メッセで１２月７－９日に開催される。
アクセリスのマリー・プーマ会長兼最高経営責任者（CEO）は「われわれはアジア太平洋地域で最大規模の技術フォーラムであるセミコン・ジャパンに参加することに興奮している。それは当社の幅広いイオン注入（http://www.axcelis.com/products/ion-implant）とプラズマ洗浄（http://www.axcelis.com/products/cleaning）技術を可能にするものを顧客に見てもらうには理想的なフォーラムである。両技術はIC製造における最も重要なステップである。日本の半導体メーカーは今年初め発生した自然災害にもかかわらず、力強く立ち上がり、次世代の2Xnm以下のNANDと画像センサー技術で先行している。われわれはこのような非常に重要な市場での市場プレゼンスを拡大したい」と語った。
デバイス・パフォーマンスと製造量を最適化し、チップ・メーカーの収益性を高めるためデバイス・メーカーの以下のような技術革新について知るには、会場のホール２、ブース#2D-806の当社展示場を見てほしい。
＊オプチマXEx（Optima XEx、商標）高エネルギー（イオン）注入装置（http://www.axcelis.com/products/ion-implant/high_energy/optima-xex）は、世界ナンバーワンの高エネルギー装置であり、他社にはない生産性を実現する最大エネルギー幅と最高のビーム電流を生み出す。そのユニークなエンドステーションとリニアック（線形加速）・ビームラインは、最高の高電流注入装置に対する業界で最も薄い金属薄膜レベルを保証する。
＊オプチマHDx（Optima HDx、商標）高電流注入装置（http://www.axcelis.com/products/ion-implant/high_current/optima-hdx）は、独自のウエハー温度制御と結びついたスポットビーム技術を実現して、今日の挑戦的デバイス・メーカー環境にとって重要な大きな製造量と収益性を提供する。同装置は新しい長寿命イオン源（Eterna EL3）であり、イオン源の寿命をこれまでにないカーボンで５００％増、ゲルマニウム（Ge）で３００％増とするよう設計され、2Xnmノード以下の接合部を浅くするアプリケーションを可能にする。
＊オプチマMDxt（Optima MDxt、商標）中電流注入装置（http://www.axcelis.com/products/ion-implant/mid_current/optima-mdxt）は、新たに市場に参入した素晴らしい製品であり、最も広範囲の中電流注入アプリケーションにこれまでにないレベルの生産性とエネルギー純化を提供する。その精密な角度調整、特許のエネルギー・フィルターおよび一定の焦点距離スキャニング能力は、デバイス・パフォーマンスの変動を最低限に抑え、可能な限り最高の製造量を可能にする。
＊インテグラES（Integra ES、商標）・プラズマ洗浄装置（http://www.axcelis.com/products/cleaning/advanced_cleaning_strip/integra-es）は、製造実績のある非酸化（除去）処理によるデバイス・パフォーマンス利点強化ができる市場唯一の製品であり、2Xnm以下のロジック・デバイスに対するドーパント保持を最大化する。装置はまた、製造上の大きな柔軟性とスピードを持つ革新的なモジュラー・クラスター設計であり、機器投資に対する最高の利益をもたらす。
アクセリス・テクノロジーズ（Axcelis Technologies, Inc. 、ナスダック：ACLS）は米マサチューセッツ州ベバリーに本社があり、半導体産業に革新的、高生産性のソリューションを提供する。アンセリスはイオン注入と洗浄技術の設計、製造、ライフサイクル支援の達成を通じて半導体処理可能アプリケーションの開発に注力している。同社のインターネット・アドレスはhttp://www.axcelis.comを参照。
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- ［電子・半導体］イオン注入など最新技術を展示、セミコン・ジャパンでアクセリス社 2011/12/06 火曜日
